AlliedVision Application semiconductor inspection

半導体検査カメラ:高度なウェーハ表面分析用

欠陥を正確に検出一貫した高品質な半導体生産を実現

精密検査用に設計された産業用カメラで優れた半導体品質を実現。生産工程における欠陥検出とプロセス信頼性を向上させます。

課題と動向

Semicon, Electronics & Display inspection

すべてのウェーハにおいて、毎回、微細な欠陥を検出する

小さな欠陥が重大な歩留まり損失に発展する可能性がある。大型ウェーハ全体でそれらを検出するには、速度と高解像度イメージングの両方が求められ、隅々まで妥協なくカバーする必要がある。

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欠陥を一つも見逃さずに高速を維持する

表面検査の完全性は、厳しいサイクルタイムに追従しなければならない。スキャン速度の低下は生産のボトルネックやスループットの低下を招くため、各工程における速度と効率が極めて重要となる。

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異なる欠陥タイプと表面への照明の適応

各欠陥タイプと表面は、固有の可視性課題をもたらします。高速スキャンに十分な光強度を確保することは、欠陥の見落としや歩留まりの低下を防ぐために極めて重要です。

技術要件

  • ウェハーや半導体製造における信頼性の高い欠陥検出のための高空間分解能イメージング
  • SWIR感応カメラによる全層貫通観察と最高水準の精度
  • 高解像度イメージングを必要とする半導体検査向け高帯域幅 
  • 生産スループット向上のための高速フレームレート動作を実現する最先端センサー
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